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雙級反滲透+EDI高純水設備工藝

一、EDI超純水制取設備簡介

    EDI超純水制取設備是將離子交換樹脂充夾在陰、陽離子交換膜之間形成EDI單元。 EDI組件中將一定數量的EDI單元間用網狀物隔開,形成濃水室,又在單元組兩端設置陰、陽電極。在直流電的推動下,通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除;此設備一般以RO水作為給水,根據去離子水用途和系統配置,適用于電阻率在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水[2]。  

EDI超純水制取設備又稱連續電除鹽是將兩種已經成熟的水凈化技術電滲析和離子交換相結合,溶解的鹽在低能耗的條件下被去除,在運行過程中不需要化學再生,并且其出水電阻率較混床出水還要高,可達10-18.2MΩ.CM,滿足國家電子級水I級標準。醫院高純水設備應用EDI系統對一級反滲透出水電導率沒有太高的要求,進水電導率在4-30us∕cm其都能夠合格產水。可能需增加軟化裝置,去除水中的鈣、鎂離子。若電導率較高時只需調節運行電流的大小和加藥量(氯化鈉)的大小。屬于環保型技術,離子交換樹脂不需酸、堿化學再生,節約大量酸、堿和清洗用水,大大降低了勞動強度。更重要的是無廢酸、廢堿液排放,屬于非化學式的水處理系統,它無需酸、堿的貯存、處理及無廢水的排放。

二、EDI超純水制取設備工作原理:
  EDI模塊將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI模塊中將一定數量的EDI單元間用格板隔開,形成濃水室和淡水室。又在單元組兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下,通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統,成為濃水EDI設備一般以二級反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達18?MΩ.cm(25℃),但是根據去離子水用途和系統配置設置,EDI超純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。EDI高純水設備是由幾個每小時產水量相同的模塊組成,根據實際純水的使用量開啟或停止EDI模塊,手動操作相對頻繁,但操作比較簡單,只需開啟EDI進水閥門、極水閥門和濃水閥門,以及打開電源同時根據出水水質調節加藥量(氯化鈉)、電解電壓和電流的大小即可,對操作工的責任心要求較高。EDI高純水設備是應用在反滲透系統之后,取代傳統的混床離子交換技術生產穩定的超純水。

三、EDI超純水制取設備與混合離子交換技術相比有如下優點:

  1、水質穩定

  2、容易實現全自動控制

  3、不會因再生而停機

  4、不需化學再生

  5、運行費用低

  6、廠房面積小

  7、無污水排放

四、EDI超純水制取設備特點

 1. 采用穩壓限流或穩流限壓的保護方式、限壓、限流、穩壓、穩流點任意調節;

 2. 手動/自動一體、PLC程序控制、實現EDI水處理全自動化;

 3. 具有軟啟動功能、 穩壓、穩流自動轉換,不會造成電源及EDI模塊的損壞;

 4. 具有斷電記憶、來電自動恢復功能;

 5. 不會產生磁場輻射或干擾電網;

 6. 電源效率高達95%以上;

 7. 模組化可靈活配置不同組數、不同容量EDI系統;

 8. 電源模組之間互不干擾、又可互換、便于在線維護;LED指示面板讓工作狀態一目了然;[4]

五、EDI超純水制取設備工藝流程
  預處理系統-反滲透系統-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統工藝)[5]

  預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)[6]

  預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)

  預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)

  預處理系統-反滲透系統-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)[7]

六、EDI超純水制取設備性能優勢
  1、可連續,穩定地生產高品質純水,無需因樹脂再生而停機;

  2、無污染物排放,既環保又省去了廢液處理的投資;

  3、設備結構緊湊,占地面積小,節省空間,同時還具有節能優點;

  4、出廠完成裝置調試,現場工作量小,上崗培訓容易;

  5、日常保養,操作簡單,勞動強度低。

七、EDI超純水制取設備應用領域

 1. 計算機硬盤、半導體材料;

 2. 顯像管、液晶顯示器、電路板和集成電路; 

 3. 高純材料及化學試劑;

 4. 實驗室用水

 5. 表面處理工藝用水;

 6. 其他高精密產品。 

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